[发明专利]应用膜分离技术对超细二氧化硅洗涤提纯的新工艺无效

专利信息
申请号: 200810030579.0 申请日: 2008-02-01
公开(公告)号: CN101224889A 公开(公告)日: 2008-07-23
发明(设计)人: 张宇平;蔡有兴;易琳琪;李舟;李浩 申请(专利权)人: 湖南金马硅业有限公司
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410300*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 应用 分离 技术 二氧化硅 洗涤 提纯 新工艺
【权利要求书】:

1.一种涉及超细二氧化硅粉体的高效洗涤提纯和固液分离浓缩新方法,其特征是超细二氧化硅粉体经过酸处理后,形成浓度不高于30%,pH小于7,包含有SiO2颗粒以及H+、SO42-、Fe2+、Fe3+、Cl-等离子性物质的粉体悬浮液,加入4倍体积的H2O稀释后,在小于1MPa的压力下,通过无机陶瓷膜将溶液中的离子性物质排出膜外,再加入2倍体积的去离子水进行洗涤、纯化,离子性杂质逐渐被全部排出,超细二氧化硅颗粒被保留,溶液的pH达到7,电导率小于10μS/cm,浓缩后其质量百分比浓度也提高到40%。

2.根据权利要求1所述的超细二氧化硅粉体的高效洗涤提纯和固液分离浓缩新方法,所说的超细二氧化硅粉体是指中位粒径D50小于10μm的结晶型或无定形二氧化硅颗粒。

3.根据权利要求1所述的超细二氧化硅粉体的高效洗涤提纯和固液分离浓缩新方法,所说的粉体悬浮液是指超细二氧化硅粉体经过调浆,加入混合酸或单一酸,还原药剂,在搅拌反应30分钟,形成的浓度不高于30%,pH小于7,包含有SiO2颗粒以及H+、SO42-、Fe2+、Fe3+、Cl-等离子性物质的粉体悬浮液。

4.根据权利要求1所述的超细二氧化硅粉体的高效洗涤提纯和固液分离浓缩新方法,所说的无机陶瓷膜为多通道陶瓷膜,孔径为0.001~1μm,材质为氧化铝或氧化锆。

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