[发明专利]用于在塑料基材上进行沉积的装置和方法无效
| 申请号： | 200810006232.2 | 申请日： | 2008-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN101299910A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 彼得·索尔;汉斯－乔格·罗茨 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H05K3/38 | 分类号： | H05K3/38;C23C14/14;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 肖善强 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于在塑料基材上沉积至少一个金属层的方法和薄膜沉积机，所述塑料基材具体为用于柔性印刷电路板的塑料薄片，其中在将第一层沉积在待沉积的所述塑料基材表面之前，对该表面进行非沉积预处理。本发明的目的是提供上述方法，从而改善塑料基材上的金属层的粘附性。另外，本发明还提供实施该方法的薄膜沉积机。上述目的通过分两个步骤进行的非沉积预处理的方法实现：在第一步骤中，用非反应性低能量等离子体(14)将塑料基材(2)表面清洁，在第二步骤中，通过反应性高能量离子辐射(17)将塑料基材(2)表面活化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 塑料 基材 进行 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在塑料基材上，特别是在用于柔性印刷电路板的塑料薄片上，沉积至少一个金属层的方法，其中，在将第一层沉积在待进行沉积的所述塑料基材表面之前，进行所述表面的非沉积预处理，其特征在于：所述非沉积预处理分两个步骤进行，在第一步骤中，用非反应性低能量等离子体(14)清洁塑料基材(2)的表面，在第二步骤中，通过反应性高能量离子辐射(17)将所述塑料基材(2)的表面活化。
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