[发明专利]检测掩模缺陷的方法和设备

摘要

本发明提供一种检测掩模缺陷的方法和设备。该方法可以包括准备具有形成在透明基板上的缺陷检测图案的掩模。该方法还可以包括准备晶片缺陷检测设备，其包括通过在掩模的表面上照射光线并且根据反射光线获得图像能够检测缺陷的缺陷检测单元以及其上面对缺陷检测单元安装掩模的掩模载物台。掩模载物台可以替换晶片缺陷检测设备的晶片载物台，并且掩模载物台可以支撑掩模使其表面高度基本上等于在晶片载物台上安装的晶片的表面高度。该方法还可以包括在掩模载物台上安装掩模，以及通过操作缺陷检测单元在掩模的表面上照射光线并且根据反射的光线获得图像来检测掩模缺陷。

主权项

1、一种用于检测掩模缺陷的方法，包括：准备掩模，具有在透明基板上的缺陷检测图案；准备掩模缺陷检测设备，其包括缺陷检测单元和掩模载物台；在该掩模载物台上安装该掩模，使得该掩模面对该缺陷检测单元并且支撑在一个表面高度上，从而该缺陷检测单元能够通过照射光到该掩模的表面上进行操作；以及通过操作该缺陷检测单元以照射光到该掩模的表面上并且根据反射的光获得图像来检测掩模缺陷。