[发明专利]具有位阻酰胺的有机金属化合物无效
| 申请号： | 200780033246.7 | 申请日： | 2007-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN101511773A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | S·H·米埃尔 | 申请（专利权）人： | 普莱克斯技术有限公司 |
| 主分类号： | C07C211/65 | 分类号： | C07C211/65;C07F7/10;C07F5/00;C23C16/40 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 庞立志;付 磊 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及式M(NR1R2)x所示的有机金属化合物，其中M是金属或准金属，R1相同或不同，并且是烃基或含杂原子的基团，R2相同或不同，并且是烃基或含杂原子的基团；R1和R2可以结合形成取代或未取代的、饱和或不饱和的环状基团；一个(NR1R2)基团的R1或R2可以与另一(NR1R2)基团的R1或R2结合形成取代或未取代的、饱和或不饱和的环状基团；x等于M的氧化态；并且其中所述有机金属化合物具有(i)足以保持单体结构的空间体积和等于M的氧化态的与阴离子配体相对的配位数，和(ii)足以拥有适于气相沉积的挥发性的分子量；制造该有机金属化合物的方法，和由有机金属前体化合物制造薄膜或涂层的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 位阻酰胺 有机 金属 化合物 | ||
【主权项】：
1. 式M(NR1R2)x所示的有机金属化合物，其中M是金属或准金属，R1相同或不同，并且是烃基或含杂原子的基团，R2相同或不同，并且是烃基或含杂原子的基团；R1和R2可以结合形成取代或未取代的、饱和或不饱和的环状基团；一个(NR1R2)基团的R1或R2可以与另一(NR1R2)基团的R1或R2结合形成取代或未取代的、饱和或不饱和的环状基团；x等于M的氧化态；并且其中所述有机金属化合物具有(i)足以保持单体结构的空间体积和等于M的氧化态的与阴离子配体相对的配位数，和(ii)足以拥有适于气相沉积的挥发性的分子量。
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