[发明专利]光漫射器、光掩模以及它们的制造方法无效
| 申请号： | 200780026758.0 | 申请日： | 2007-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN101523288A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 路志坚 | 申请（专利权）人： | 路志坚 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张 钦 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种具有随机开口的大掩模可这样形成，即形成具有透射开口的随机图案的较小掩模(还被称为单元掩模)，然后将该较小掩模重复复制以产生该较大掩模。该随机图案可通过将开口地点扰动较小的量而产生，或者在满足一定准则的条件下，开口可被随机放置在单元掩模内。作为选择，具有透射开口的随机图案的大掩模可不使用单元掩模而形成。这种大掩模可用于制造没有遭受在具有被非随机地构图的结构的器件中常见的干涉、衍射和其它光学效应的漫射器以及其它器件。 | ||
| 搜索关键词： | 漫射 光掩模 以及 它们 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种光掩模，该光掩模包括：具有多个区域的掩模，其中，该多个区域中的每一个具有被随机定位的透射开口的基本相同的图案。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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