[发明专利]发光元件和发光元件的制造方法无效
| 申请号： | 200780021797.1 | 申请日： | 2007-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101467493A | 公开（公告）日： | 2009-06-24 |
| 发明（设计）人： | 八木靖司;渡边伸吾;野沢俊久;河村忠一;吉野公彦;大见忠弘 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H01L51/50 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高少蔚;李 伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了一种发光元件的制造装置，其特征在于：具有进行衬底处理的多个处理室，该衬底处理用于在被处理衬底上形成具有包含有机层的多个层的发光元件；多个处理室分别构成为：以被处理衬底的形成发光元件的元件形成面朝向与重力方向相反的方向的方式，进行被处理衬底的衬底处理。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种发光元件的制造装置，具有进行衬底处理的多个处理室，该衬底处理用于在被处理衬底上形成具有包含有机层的多个层的发光元件；所述多个处理室分别构成为：以所述被处理衬底的形成所述发光元件的元件形成面朝向与重力方向相反的方向的方式，对所述被处理衬底进行预定的处理。
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