[发明专利]发光元件和发光元件的制造方法无效
| 申请号: | 200780021797.1 | 申请日: | 2007-06-13 |
| 公开(公告)号: | CN101467493A | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
| 发明(设计)人: | 八木靖司;渡边伸吾;野沢俊久;河村忠一;吉野公彦;大见忠弘 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学 |
| 主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;H01L51/50 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高少蔚;李 伟 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 发光 元件 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及包含有机发光层的发光元件的制造方法、以及包含有机发光层的发光元件的制造装置。
背景技术
近年来,能薄形化的平面型显示装置的实用化不断发展,正在取代以往使用的CRT(Cathode Ray Tube)。例如,有机电致发光元件(有机EL元件)具有自发光、高速响应等特征,所以作为下一代显示装置用的元件引人注目。此外,有机EL元件除了显示装置以外,有时也作为面发光元件使用。
有机EL元件是在正电极和负电极之间夹持包含有机EL(发光层)的有机层而构成的。空穴从正电极向该发光层注入,电子从负电极向该发光层注入,它们进行复合而发光。
此外,在有机层中,按照需要,在正电极和发光层之间插入空穴输送层,并且/或者在负电极和发光层之间插入电子输送层,由此能改善发光效率。
形成所述发光元件的一般方法如下所述。首先,利用蒸镀法在形成了由铟锡氧化物(ITO)构成的正电极图案的衬底上形成有机层。所谓蒸镀法,例如是在被处理衬底上淀积蒸发或者升华了的蒸镀原料而形成薄膜的方法。接着,在该有机层上,通过蒸镀法等,形成成为负电极的铝(Al)。
这样,就形成了在正电极和负电极之间形成了有机层的发光元件(例如参照专利文献1)。
图1是示意地表示构成以往的发光元件的制造装置的一部分的蒸镀装置的图。
参照图1,蒸镀装置10具有在内部划分了内部空间11A的处理容器11。在内部空间11A中设置有蒸镀源12、与蒸镀源12相对的衬底保持台15。内部空间11A通过排气管14从排气泵等(未图示)排气,保持预定的减压状态。
在蒸镀源12上设置有加热器13,用加热器13把保持在内部的原料12A加热。据此,原料12A蒸发或者升华,产生气体原料G。该气体原料淀积到保持于衬底保持台15的被处理衬底S上。
使用所述成膜装置10能形成发光元件的有机层(发光层)、有机层上的电极等。
专利文献1:日本专利申请公开公报第2004-225058号
可是,在以往的发光元件的制造装置中,例如使用蒸镀法进行成膜时,为了在被处理衬底上淀积从处理容器内的蒸镀源蒸发或者升华的原料,需要把成膜面朝下(face down)来保持被处理衬底。因此,在被处理衬底变大时,产生了被处理衬底的处理变得困难,发光元件的生产性下降的问题。
特别是近年来的平板显示器逐渐大型化,使用发光元件(有机EL元件)的显示装置有大型化的倾向。因此,形成发光元件的被处理衬底与此相伴,也存在大型化的倾向,被处理衬底的输送和安装等处理变得日益困难起来。
此外,在制造发光元件的多个衬底处理步骤中,如果面朝下保持衬底的处理装置和面朝上保持衬底的处理装置混合存在,则被处理衬底的输送和处理变得很复杂,将产生发光元件的生产性下降,制造成本增大的问题。
另外被处理衬底破损的概率增大,此外,关于被处理衬底的翘曲量,也必须予以充分考虑,有可能产生生产性下降的问题。
发明内容
因此,本发明的目的在于,提供解决所述问题的新的有用的发光元件的制造装置和发光元件的制造方法。
本发明的具体的课题在于,提供能以良好的生产性制造具有包含有机层的多个层的发光元件的发光元件制造装置、以良好的生产性制造具有包含有机层的多个层的发光元件的发光元件制造方法。
本发明的第1方式提供一种发光元件的制造装置,具有进行衬底处理的多个处理室,该衬底处理用于在被处理衬底上形成具有包含有机层的多个层的发光元件;该多个处理室分别构成为:以被处理衬底的形成发光元件的元件形成面朝向与重力方向相反的方向的方式,对被处理衬底进行预定的处理。
本发明的第2方式提供一种发光元件的制造装置,是第1方式的发光元件的制造装置,具有连接多个处理室并且对多个处理室输送被处理衬底的输送室,在输送室中,以被处理衬底的元件形成面朝向与重力方向相反的方向的方式保持并输送被处理衬底。
本发明的第3方式提供一种发光元件的制造装置,是第2方式的发光元件的制造装置,还具有多个输送室。
本发明的第4方式提供一种发光元件的制造装置,是第1~第3方式中的任意一个方式的发光元件的制造装置,多个处理室包括:用于进行有机层的成膜的有机层成膜室、用于进行对有机层施加电压的电极的成膜的电极成膜室。
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