[发明专利]发光元件和发光元件的制造方法无效
| 申请号: | 200780021797.1 | 申请日: | 2007-06-13 |
| 公开(公告)号: | CN101467493A | 公开(公告)日: | 2009-06-24 |
| 发明(设计)人: | 八木靖司;渡边伸吾;野沢俊久;河村忠一;吉野公彦;大见忠弘 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学 |
| 主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;H01L51/50 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高少蔚;李 伟 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 发光 元件 制造 方法 | ||
1.一种发光元件的制造装置,具有进行衬底处理的多个处理室,该衬底处理用于在被处理衬底上形成具有包含有机层的多个层的发光元件;
所述多个处理室分别构成为:以所述被处理衬底的形成所述发光元件的元件形成面朝向与重力方向相反的方向的方式,对所述被处理衬底进行预定的处理。
2.根据权利要求1所述的发光元件的制造装置,其特征在于,
具有连接在所述多个处理室上、对所述多个处理室输送所述被处理衬底的输送室;在所述输送室中,以所述被处理衬底的所述元件形成面朝向与重力方向相反的方向的方式保持并输送所述被处理衬底。
3.根据权利要求2所述的发光元件的制造装置,其特征在于,
具有多个所述输送室。
4.根据权利要求1所述的发光元件的制造装置,其特征在于,所述多个处理室包括:
用于进行所述有机层的成膜的有机层成膜室;以及
用于进行对所述有机层施加电压的电极的成膜的电极成膜室。
5.根据权利要求4所述的发光元件的制造装置,其特征在于,
所述有机层成膜室构成为:具有多层构造的有机层通过蒸镀法连续地成膜,该多层构造包含通过施加电压而发光的发光层。
6.根据权利要求5所述的发光元件的制造装置,其特征在于,所述有机层成膜室设置有:
保持所述被处理衬底的保持台;以及
把用于蒸镀的多个成膜原料气体供给到所述被处理衬底上的多个成膜原料气体供给部。
7.根据权利要求6所述的发光元件的制造装置,其特征在于,具有:
使蒸镀的原料蒸发或升华而生成所述成膜原料气体的成膜原料气体生成部;以及
从所述成膜原料气体生成部对所述成膜原料气体供给部输送所述成膜原料气体的输送路。
8.根据权利要求7所述的发光元件的制造装置,其特征在于,
分别具有与多个所述成膜原料气体供给部对应的多个所述成膜原料气体生成部和多个所述输送路。
9.根据权利要求8所述的发光元件的制造装置,其特征在于,
所述保持台构成为:沿着所述多个成膜原料气体供给部的排列方向移动。
10.根据权利要求4~9中任意一项所述的发光元件的制造装置,其特征在于,
在所述电极成膜室中构成为:通过使用彼此相对的2个靶的溅射法,进行所述电极的成膜。
11.根据权利要求1所述的发光元件的制造装置,其特征在于,
所述多个处理室包括用于蚀刻所述有机层而形成图案的蚀刻室。
12.一种发光元件的制造方法,在被处理衬底的元件形成面上形成具有包含有机层的多个层的发光元件,
具有在多个处理室中分别实施的多个衬底处理步骤;
在所述多个处理室中,以所述元件形成面朝向与重力方向相反的方向的方式对所述被处理衬底进行处理。
13.根据权利要求12所述的发光元件的制造方法,其特征在于,
在连接在多个处理室上、把所述被处理衬底输送到所述多个处理室中的输送室中,以所述元件形成面朝向与重力方向相反的方向的方式保持并输送所述被处理衬底。
14.根据权利要求13所述的发光元件的制造方法,其特征在于,
所述被处理衬底通过多个所述输送室被输送到多个所述处理室。
15.根据权利要求12所述的发光元件的制造方法,其特征在于,所述多个衬底处理步骤包括:
用于进行所述有机层的成膜的有机层成膜步骤;以及
用于进行对所述有机层施加电压的电极的成膜的电极成膜步骤。
16.根据权利要求15所述的发光元件的制造方法,其特征在于,
在所述有机层成膜步骤中,所述有机层通过蒸镀法连续地成膜,该有机层具有包含通过施加电压而发光的发光层的多层构造。
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