[发明专利]负性辐射敏感组合物及可成像材料

摘要

一种辐射敏感组合物，包含可自由基聚合的组份和当曝光于成像辐射时能够产生足以引发可自由基聚合组份聚合的自由基的碘鎓硼酸盐引发剂组合物。该碘鎓硼酸盐引发剂组合物包含具有有机取代基的特定的二芳基碘鎓硼酸盐化合物，以在碘鎓阳离子苯环上提供总数至少为6个的碳原子。此组合物可以涂覆于合适的基材上以提供负性可成像元件，该元件具有提高的数字速度和良好的保存寿命，并可以被成像以提供平板印刷板。所述成像元件可使用碱性显影剂联机或脱机显影。

主权项

1. 辐射敏感组合物，包含：可自由基聚合的组份，当曝光于成像辐射时，能够产生足以引发所述可自由基聚合组份聚合的自由基的碘鎓硼酸盐引发剂组合物，辐射吸收化合物，和聚合物粘结剂，其中，所述碘鎓硼酸盐引发剂组合物包含由以下结构(I)表示的二芳基碘鎓硼酸盐化合物：其中X和Y独立地是卤素、烷基、烷氧基或环烷基基团，或两个或两个以上相邻的X或Y基团可以结合以形成具有各自的苯环的稠环，p和q独立地是0或1至5的整数，条件是p或q至少是1且在X和Y取代基或稠环中的碳原子的总数至少是6，和Z-是由以下结构(II)表示的有机阴离子：其中，R1、R2、R3和R4独立地是烷基、芳基、烯基、炔基、环烷基或杂环基基团，或两个或两个以上的R1、R2、R3和R4可以结合起来以形成具有硼原子的杂环。