[发明专利]涂布玻璃的方法和装置有效
| 申请号： | 200780013889.5 | 申请日： | 2007-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101426951A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 马尔库·拉亚拉;安西·霍维宁;卡伊·阿西卡拉 | 申请（专利权）人： | BENEQ有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C03B37/014;C03C17/02;C03C17/245 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 蔡胜有;吴亦华 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用CVD法涂布玻璃的方法和装置。根据本发明，通过将固体颗粒形式的一些涂料递送到涂层中来沉积所述涂层，所述固体颗粒的组成与所述待沉积的涂层的组成基本相同且其粒径小于200nm。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 方法 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种通过CVD法涂布玻璃的方法，其特征在于在沉积涂层时，一些涂料以固体颗粒的形式递送到所述涂层中，所述固体颗粒的组成与所述待沉积的涂层的组成基本相同并且其粒径小于200nm。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
