[发明专利]涂布玻璃的方法和装置

权利要求书

1.一种通过CVD法涂布玻璃的方法，其中在沉积涂层时，一些涂 料以固体颗粒的形式递送进所述涂层中，所述固体颗粒组成与所述待沉 积的涂层的组成基本相同并且其粒径小于200nm，所述方法的特征在于 所述待沉积的涂层为低辐射率涂层，所述低辐射率涂层反射红外辐射， 使得被反射的红外辐射的量超过70％。

2.根据权利要求1的涂布玻璃的方法，其特征在于利用所述方法 以如下方式在所述玻璃表面上产生低辐射率膜：所述粒径小于200nm的 颗粒中核的组成与待沉积的所述低辐射率膜的组成基本相同并且所述颗 粒的壳由导电率比所述颗粒的核的导电率高的材料组成。

3.根据权利要求2的方法，其特征在于所述低辐射率膜和所述颗粒 的核的材料为SnO₂、SnO₂:F、SnO₂:Sb、SnO₂:F:Sb、ZnO:F、或它们的 组合，所述颗粒的壳的材料为Ag、Au、Pt、Pd、或它们的组合。

4.根据权利要求1-3中任一项的方法，其特征在于所述涂层向所述玻 璃表面的附着主要通过由所述CVD沉积引起的化学吸附而发生。

5.一种用于涂布玻璃的装置，所述装置包括：

产生粒径小于200nm的固体颗粒的机构，所述固体颗粒的组成与待 沉积的涂层的组成基本相同；

向将在CVD沉积中使用的气体混合物中递送所述固体颗粒的机构， 所述混合物包含至少一种气体，其特征在于所述待沉积的涂层为低辐射 率涂层，所述低辐射率涂层反射红外辐射，使得被反射的红外辐射的量 超过70％。