[实用新型]半导体设备的面板清洗装置无效
| 申请号： | 200720144167.0 | 申请日： | 2007-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN201094956Y | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | 斯健全;瞿治军 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体设备的面板清洗装置，包括面板、供水模块、控制气路；在面板内部的顶棚四周设置有分布若干喷嘴的水管，所述水管一端与所述供水模块连通，水管上设有气动水阀，气动水阀通过气路与所述控制气路连接。喷嘴的最大喷洒角度为80～120°；水管的内径为10±0.5mm；供水模块出口的纯水压力为200±50kPa。本实用新型用于对半导体行业用化学机械研磨装置的面板进行在线清洗，可减少设备的维护时间和频度，提高设备的利用率；并且结构简单，成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体设备 面板 清洗 装置 | ||
【主权项】：
1、一种半导体设备的面板清洗装置，包括面板、供水模块、控制气路；其特征在于：在面板内部的顶棚四周设置有分布若干喷嘴的水管，所述水管一端与所述供水模块连通，水管上设有气动水阀，气动水阀通过气路与所述控制气路连接。
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