[实用新型]简易掩模版翻版夹具有效
申请号: | 200720121783.4 | 申请日: | 2007-07-23 |
公开(公告)号: | CN201060371Y | 公开(公告)日: | 2008-05-14 |
发明(设计)人: | 吴中海;曹均凯 | 申请(专利权)人: | 深圳新飞通光电子技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/12 | 分类号: | G03F1/12;G03F1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518057广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供一种简易掩模版翻版夹具,包括:一底座和压盖,所述压盖的中心开设有曝光通孔,压盖的底面位于曝光通孔的外围四周设有一压盖沟槽,该沟槽用容纳一上弹性压条,该弹性压条部分地由沟槽内向外突起;所述底座的上表面设有与所述压盖大小相适配的第一下沉腔体,该腔体边缘对称地设有至少一对定位槽与压盖边缘的向外伸出的定位凸块相适配,第一下沉腔体底部中心设有第二下沉腔体用于容纳待复制工作基板及其上表面的掩模版母版,所述第二下沉腔体的底部四周设有一底座沟槽,该沟槽用于容纳一下弹性压条,该弹性压条部分地由沟槽内向外突起;所述底座和压盖通过至少一对对称的螺钉固定。其结构简单,成本低,光刻图形套准精度更高。 | ||
搜索关键词: | 简易 模版 翻版 夹具 | ||
【主权项】:
1.一种简易掩模版翻版夹具,其特征是,包括:一底座(20)和一压盖(10),所述压盖(10)的中心开设有曝光通孔(13),压盖(10)的底面位于曝光通孔的外围四周设有一压盖沟槽(14),该沟槽用容纳一上弹性压条(30),该弹性压条部分地由沟槽(14)内向外突起;所述底座(20)的上表面设有与所述压盖(10)大小相适配的第一下沉腔体(21),该腔体边缘对称地设有至少一对定位槽(22)与压盖(10)边缘的向外伸出的定位凸块(12)相适配,第一下沉腔体(21)底部中心设有第二下沉腔体(23)用于容纳待复制工作基板及其上表面的掩模版母版,所述第二下沉腔体(23)的底部四周设有一底座沟槽(24),该沟槽用于容纳一下弹性压条(40),该弹性压条部分地由沟槽内向外突起;所述底座(20)和压盖(10)通过至少一对对称的螺钉(50)固定。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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