[发明专利]阵列基板制造用的光掩模、阵列基板及其制造方法有效
申请号: | 200710305033.7 | 申请日: | 2007-12-19 |
公开(公告)号: | CN101206393A | 公开(公告)日: | 2008-06-25 |
发明(设计)人: | 川野英郎;砂山英树 | 申请(专利权)人: | 龙腾光电(控股)有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G02F1/136;H01L27/12;H01L21/027 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 臧霁晨;王忠忠 |
地址: | 英属维*** | 国省代码: | 维尔京群岛;VG |
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摘要: | 本发明提供一种使用相同的光掩模由母玻璃基板制作多片阵列基板的情况下可以自由地形成或切断连接相邻的曝光区域的配线;即使是在由相同的母玻璃基板制造不同大小的阵列基板的情况下也可以利用相同的检查用探针装置进行检查的光掩模、阵列基板及其制造方法。解决手段是,构成上述光掩模以使得:在阵列基板的上端部形成上部上下走向配线,在下端部形成下部上下走向配线;以及在所述下部上下走向配线的左侧或右侧,形成向所述阵列基板下端侧的边界U转弯的“向边界U转弯部”和再次向所述阵列基板中央部U转弯的“向中央部U转弯部”。 | ||
搜索关键词: | 阵列 制造 光掩模 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光掩模,用于制造能多片取得液晶显示装置用的TFT阵列基板、即以下简称为“阵列基板”,其特征在于,所述光掩模具有在阵列基板的上端部形成上下走向的配线、即下述“上部上下走向的配线”的区域、在阵列基板的下端部形成上下走向的配线、即下述“下部上下走向的配线”的区域,以及在所述下部上下走向的配线与所述上部上下走向的配线两者中的至少一配线的任一侧形成转弯部的区域。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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