[发明专利]涂覆设备和气体供应系统无效
申请号: | 200710302348.6 | 申请日: | 2007-12-25 |
公开(公告)号: | CN101260518A | 公开(公告)日: | 2008-09-10 |
发明(设计)人: | 斯蒂芬·威尔德;杜比亚斯·瑞浦曼恩 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 赵飞 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种涂覆设备包括处理室和气体管路系统,其用于将气体供应到涂覆设备的处理室中。气体管路系统具有用于将气体供应到气体管路系统中的供应开口和用于将气体排出气体管路系统的排出开口。管路被形成为使得在供应开口与排出开口之间的管路的流动阻力基本相等。气体管路系统具有分支点,第一管路部分在分支点处开口为连接至第一管路部分的至少三个第二管路部分。第一和第二管路部分布置在不同的级别中。通过级别之间的连接在板中设置钻孔。排出开口被布置为在整个区域上的规则栅格,使得排出开口都形成相邻方形的中心,每个方形具有相同面积,形成矩形的整个表面具有不等长度的侧边和非偶数的侧边长度比。排出开口是三的整数倍。 | ||
搜索关键词: | 设备 气体 供应 系统 | ||
【主权项】:
1.一种涂覆设备,其特别是PECVD涂覆设备,包括处理室,和气体管路系统(1),其用于将气体供应到所述涂覆设备的所述处理室中和/或将气体从所述涂覆设备的所述处理室排出,所述气体管路系统(1)具有用于将气体供应到所述气体管路系统(1)中或用于将气体从所述气体管路系统(1)移除的至少一个供应开口(2),用于将气体排出所述气体管路系统(1)或者用于将气体引入所述气体管路系统(1)的至少两个排出开口,以及管路(3a、3b、3aa、3ab、3ac、3ba、3bb、3bc),所述管路每个都布置在所述至少一个供应开口(2)与所述排出开口(4a、4b、4c、4d、4e、4f)之间,所述管路(3a、3b、3aa、3ab、3ac、3ba、3bb、3bc)被形成为使得在所述至少一个供应开口(2)与所述排出开口(4a、4b、4c、4d、4e、4f)之间的各个管路(3a、3b、3aa、3ab、3ac、3ba、3bb、3bc)的流动阻力基本相等,其特征在于所述气体管路系统(1)具有至少一个分支点(2a、2b),在所述至少一个分支点处第一管路部分(3a、3b)开口为连接至所述第一管路部分(3a、3b)的至少三个第二管路部分(3aa、3ab、3ac、3ba、3bb、3bc)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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