[发明专利]荧光体层厚度的确定方法和发光设备的制造方法无效
| 申请号： | 200710198991.9 | 申请日： | 2007-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101202322A | 公开（公告）日： | 2008-06-18 |
| 发明（设计）人： | 小野高志 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L21/66;H01L21/56;G01B11/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘杰;刘宗杰 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种具有荧光体层的装置的荧光体层厚度确定方法，所述荧光体层通过在透明树脂中分散荧光体颗粒形成，所述方法包括步骤：向所述荧光体层施加激光，从而基于所述激光从所述荧光体颗粒激发的荧光的发光强度或发光区域面积确定荧光体层的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 厚度 确定 方法 发光 设备 制造 | ||
【主权项】：
1.一种具有荧光体层的装置的荧光体层厚度确定方法，所述荧光体层通过在透明树脂中分散荧光体颗粒形成，所述方法包括步骤：向所述荧光体层施加激光，从而基于所述激光从所述荧光体颗粒激发的荧光的发光强度或发光区域面积确定荧光体层的厚度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社，未经夏普株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710198991.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
