[发明专利]纳米晶荧光体和被覆纳米晶荧光体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200710181160.0 申请日: 2007-10-12
公开(公告)号: CN101161766A 公开(公告)日: 2008-04-16
发明(设计)人: 两轮达也;斋藤肇 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: C09K11/62 分类号: C09K11/62;C09K11/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 封新琴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明披露具有芯/壳结构的纳米晶荧光体,所述芯/壳结构由第13族氮化物半导体的芯和覆盖芯的壳层形成,所述壳层包括13族氮化物混晶半导体的壳膜。该纳米晶荧光体具有高的发光效率并具有优异的可靠性。本发明还披露被覆纳米晶荧光体,通过使改性有机分子与纳米晶荧光体结合和/或用改性有机分子被覆纳米晶荧光体制得该被覆纳米晶荧光体。该被覆纳米晶荧光体具有高的分散性。本发明还披露通过加热混合溶液制备被覆纳米晶荧光体的方法,所述混合溶液包含第13族氮化物半导体的芯、含氮化合物、含第13族元素的化合物和改性有机分子。
搜索关键词: 纳米 荧光 被覆 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有芯/壳结构的纳米晶荧光体,其包括:第13族氮化物半导体的芯;和覆盖所述芯的壳层,其包括第13族氮化物混晶半导体的壳膜。
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