[发明专利]反透过型阵列基板有效
| 申请号： | 200710175207.2 | 申请日： | 2007-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN101398557A | 公开（公告）日： | 2009-04-01 |
| 发明（设计）人： | 刘圣烈;崔莹石;柳在一 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/137 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种反透过型阵列基板，包括：玻璃基板和阵列主体，玻璃基板包括相对的第一面和第二面，在玻璃基板第一面形成压花，在压花上设置反射板；在玻璃基板第二面设置阵列主体。本发明有效解决了现有的反透过型阵列基板在设计过程中树脂层厚度、钝化层厚度、液晶盒间隙等各参数设定困难的缺陷，并且提高了液晶显示装置的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 透过 阵列 | ||
【主权项】：
1、一种反透过型阵列基板，包括：玻璃基板和阵列主体，所述玻璃基板包括相对的第一面和第二面，所述玻璃基板设有透射区域和反射区域，其特征在于：在玻璃基板第一面的反射区域形成有压花，在所述压花上设置反射板；在玻璃基板第二面设置阵列主体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司，未经北京京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710175207.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：避免残像的方法及装置
- 下一篇：一种大气激光通信系统视轴自动修正方法
