[发明专利]反透过型阵列基板

说明书

技术领域

本发明涉及一种阵列基板，特别涉及一种透射反射型阵列基板。

背景技术

液晶显示装置是现在使用最多的平板显示装置中的一种，其主要由两个基板结构和基板结构之间注入的液晶层组成，两个基板结构上设有可产生电场的电极，电极产生电压后液晶层的液晶分子随电场移动，液晶分子在电场的作用下按照一定方向旋转，使光线按照一定折射率穿过液晶层。

液晶显示装置根据其显示模式可分为透射型，透射反射型和反射型。所谓透射型是利用背光源显示画面的显示模式，反射型是利用从外部射入的光线显示画面的显示模式，透射反射型是介于透射型和反射型之间的显示模式，即透射反射型既可以利用背光源也可以利用从外部射入的光线。

液晶显示装置根据其驱动液晶的电场方向分为：垂直电场型液晶显示装置和横向电场型液晶显示装置，其中垂直电场型液晶显示装置中包括：扭曲向列型(Twist Nematic，以下简称为“TN”)结构和垂直取向型(VerticalAlign，以下简称为“VA”)结构等；横向电场型液晶显示装置中包括：边缘场切换型(Fringe Field Switch，以下简称为“FFS”)结构和面内切换型(InPlane Switch，以下简称为“IPS”)结构等。垂直电场型液晶显示装置是通过分别设置在阵列基板上的像素电极和设置在彩色滤光片基板上的公共电极形成垂直电场；横向电场型液晶显示装置是通过设置在阵列基板上的像素电极和公共电极以形成横向电场。现在垂直电场型和横向电场型液晶显示装置为公知技术，并且相应的产品早已进入产品市场，因此在这里对其具体结构不再进一步详细介绍。另外，TN型液晶显示装置其构造简单，被广泛应用于小型平板显示装置中；FFS型液晶显示装置和IPS型液晶显示装置等则相比其他模式具有更好的视角性能，因此广泛应用于高质量平板显示装置中。

透射反射型液晶显示装置需要用反射板反射从外部射入的光线，因此在结构上比透射型液晶显示装置增加了用于形成反射板压花的树脂层和用于反射光线的反射板结构。透射反射型液晶显示装置在原来的透射型液晶显示装置中相应增加了上述多层结构，因此半透射型液晶显示装置的阵列基板表面呈现出极为不平整的表面，具体地说：由于在像素区域内的透射区域和反射区域结构不同，在像素区域呈现出不平整的表面，从而导致了设计液晶盒的过程中增加了设定各项参数(树脂层的厚度、钝化层的厚度、液晶盒间隙等)的难度。

图1为现有半透射阵列基板结构示意图。如图1所示，在玻璃基板1表面依次形成了栅线(图中未画出)和栅电极2、栅绝缘层3、有源层4、源漏电极5、数据线(图中未画出)、树脂层6、反射板7、钝化层8和像素电极9，具体为：玻璃基板1上设置栅线和栅电极2以及栅绝缘层3；有源层4位于栅电极2上方，并且有源层4和栅电极2之间隔有栅绝缘层3；源漏电极5位于有源层4上并设置隔离沟道，源漏电极5一端与数据线连结、另一端与像素电极9连接；树脂层6位于栅绝缘层3上，其表面设有凹凸不平的压花；反射板7位于树脂层6上，其表面同样形成有凹凸不平的压花，以提高反射率；钝化层8位于源漏电极5和反射板7上；像素电极9位于钝化层8表面，覆盖用于显示颜色的像素区域，通过钝化层8上的过孔81与源漏电极5的一端连接。

由于现有技术在像素区域的反射区域内通过树脂层形成压花，并在其上设置反射板，导致原本应平整的像素区域变成了起伏的表面，使得像素区域内液晶注入量不同，同时像素区域内的透射区域和反射区域具有不同的光传播距离，因此设计液晶盒时增加了设定各项参数(树脂的厚度、钝化层的厚度、液晶盒间隙等)的难度。另外，设有压花的树脂层和反射板结构给其他各项参数之间的稳定性产生诸多不利影响，因此即使产品下线之后对其稳定工作产生一些潜在的不利影响。

发明内容

本发明的目的是提供一种透射反射型阵列基板，有效解决现有的透射反射型阵列基板各项参数设定难度过大的缺陷。

为实现上述目的，本发明提供了一种透射反射型阵列基板，包括：玻璃基板和阵列主体，玻璃基板包括相对的第一面和第二面，玻璃基板设有透射区域河反射区域，在玻璃基板第一面的反射区域形成有压花，在压花上设置反射板；在玻璃基板第二面设置阵列主体。

其中，阵列主体为扭曲向列型结构主体、垂直取向型结构主体、边缘场切换型结构主体或面内切换型结构主体。

其中，压花为点阵形。

其中，反射板的材料为铝、钼、钛、铝合金或钛合金。

其中，在玻璃基板第一面上还设置保护膜。

其中，保护膜的材料为硅的氮化物或树脂。