[发明专利]反透过型阵列基板有效
| 申请号： | 200710175207.2 | 申请日： | 2007-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN101398557A | 公开（公告）日： | 2009-04-01 |
| 发明（设计）人： | 刘圣烈;崔莹石;柳在一 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/137 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透过 阵列 | ||
【权利要求书】：
1.一种透射反射型阵列基板，包括：玻璃基板和阵列主体，所述玻璃基板包括相对的第一面和第二面，所述玻璃基板设有透射区域和反射区域，其特征在于：在玻璃基板第一面的反射区域形成有压花，在所述压花上设置反射板；在玻璃基板第二面设置阵列主体。
2.根据权利要求1所述的透射反射型阵列基板，其特征在于：所述阵列主体为扭曲向列型结构主体、垂直取向型结构主体、边缘场切换型结构主体或面内切换型结构主体。
3.根据权利要求1所述的透射反射型阵列基板，其特征在于：所述压花为点阵形。
4.根据权利要求1所述的透射反射型阵列基板，其特征在于：所述反射板的材料为铝、钼、钛、铝合金或钛合金。
5.根据权利要求1～4任一权利要求所述的透射反射型阵列基板，其特征在于：在所述玻璃基板第一面上还设置保护膜。
6.根据权利要求5所属的透射反射型阵列基板，其特征在于：所述保护膜的材料为硅的氮化物或树脂。
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