[发明专利]同轴喷淋式喷头及其应用无效
申请号: | 200710158823.7 | 申请日: | 2007-12-12 |
公开(公告)号: | CN101294275A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | 孙小卫;刘立宁 | 申请(专利权)人: | 孙小卫;刘立宁 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/30;B05B1/14;B05B7/04 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 056002河北省邯郸*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明涉及一种同轴排列喷淋式喷头及其应用,用于化学气相沉积和有机金属化学气相沉积方法制备薄膜的工艺过程中,将所需反应气体或等离子体通过本发明设计的双通道或多通道同轴喷淋头喷出成膜。该同轴喷淋式喷头设有进气通道以及同轴管,同轴的管道分别与对应的进气通道连通。本发明解决化学气相沉积中,两种气体难于实现充分的混合,以及进气通道过于密集、加工制作困难等问题。本发明适用于通过两种气相反应物来生长薄膜(或纳米结构)的化学气相沉积工艺,可以生长的材料包括SiO2,GaN和ZnO等。同时,本发明也致力于实现通过喷淋头喷射三种或更多反应气体或等离子体以用于大面积均匀薄膜沉积。 | ||
搜索关键词: | 同轴 喷淋 喷头 及其 应用 | ||
【主权项】:
1、一种同轴喷淋式喷头,其特征在于:该同轴喷淋式喷头设有进气通道以及同轴管,同轴的管道分别与对应的进气通道连通。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的