[发明专利]化学溶液和使用它处理衬底的方法有效
| 申请号： | 200710154296.2 | 申请日： | 2007-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN101144987B | 公开（公告）日： | 2008-03-19 |
| 发明（设计）人： | 城户秀作;铃木圣二;安江秀国;西嶋佳孝 | 申请（专利权）人： | NLT科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/26;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/027;H01L21/3105;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;樊卫民 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种用于至少去除在衬底上形成的有机膜图案的表面上形成的阻止层的化学溶液，阻止层由所述有机膜图案表面变质而形成的变质层和在所述有机膜图案表面上沉积沉积物而形成的沉积层中的至少一种构成。化学溶液由含有第一组分和第二组分的水溶液组成，所述第一组分由羟胺衍生物和肼衍生物中的至少一种组成，所述第二组分具有显影功能。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 溶液 使用 处理 衬底 方法 | ||
【主权项】：
一种用于至少去除在衬底上形成的有机膜图案的表面上形成的阻止层的化学溶液，所述阻止层由所述有机膜图案表面变质而形成的变质层和在所述有机膜图案表面上沉积沉积物而形成的沉积层中的至少一种构成，所述化学溶液由含有第一组分和第二组分的水溶液组成，所述第一组分由羟胺衍生物和肼衍生物中的至少一种组成，所述第二组分具有显影功能，其中所述第二组分含有四烷基氢氧化铵、碱金属氢氧化物和碱金属碳酸盐中的至少一种。
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