[发明专利]图案描画装置以及图案描画方法无效
申请号: | 200710148799.9 | 申请日: | 2007-09-11 |
公开(公告)号: | CN101178546A | 公开(公告)日: | 2008-05-14 |
发明(设计)人: | 井上正雄 | 申请(专利权)人: | 大日本网目版制造株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐恕 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 图案描画装置将具有多个扫描对象区域的基板作为处理对象时,可降低曝光扫描次数。图案描画装置使多个曝光头相对基板沿主扫描方向和副扫描方向相对移动,由此进行沿主扫描方向的曝光扫描,该沿主扫描方向的曝光扫描分别对从基板的开始位置(Ps)起在副扫描方向上以规定宽度(w)所规定的多个扫描区域(As)承担曝光扫描。根据规定宽度、间隙端距离(La)及间隙宽度(Ld),以使相邻的扫描区域边界中的任一边界位于间隙区域中的方式决定开始位置。因此,在一个扫描区域中不会包含两个扫描对象区域的一部分。其结果,即使将具有多个扫描对象区域的基板作为处理对象,也无需对同一个扫描区域进行两次曝光扫描,故能够降低曝光扫描次数。 | ||
搜索关键词: | 图案 描画 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种图案描画装置,分别在形成有感光材料的基板的多个扫描对象区域上,能够描画规则图案,其特征在于,具有:曝光单元,其将来自光源的光照射到所述基板上而对所述基板进行曝光,从而描画所述图案;扫描机构,其使所述曝光单元在相互垂直的主扫描方向和副扫描方向上,相对所述基板进行相对移动,由此使所述曝光单元进行沿着主扫描方向的曝光扫描,其中,该沿着主扫描方向的曝光扫描分别对于多个扫描区域承担曝光扫描,而且,该多个扫描区域是指,从所述基板上的开始位置起在所述副扫描方向上以规定宽度所规定的区域;决定单元,根据所述规定宽度、以及在所述副扫描方向上相邻的所述扫描对象区域之间的间隙区域的位置信息,以使相邻的所述扫描区域边界中的任一边界位于所述间隙区域中的方式决定所述开始位置。
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