[发明专利]蚀刻机台电极结构及其制作方法有效
| 申请号： | 200710140022.8 | 申请日： | 2007-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN101111121A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 游庭权;江泓庆;洪国展 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/34 | 分类号： | H05H1/34;H01L21/00;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/3213;H01J37/04;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻机台电极结构及其制作方法，其中该蚀刻机台电极结构包含有电极基板具有多个气孔，以及多个陶瓷通气环分别安装于气孔之中。电极基板之上，还可形成表面处理层、陶瓷层以及金属钨层，以保护此电极基板。本发明的蚀刻机台电极结构，可以利用陶瓷通气环，有效地改善蚀刻等离子体破坏下电极气孔的情况，以使电极及显示器面板报废的情况有效地被降低。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 机台 电极 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻机台电极结构，至少包含：电极基板，具有多个气孔；以及多个陶瓷通气环，安装于所述气孔之中。
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