[发明专利]具有开放配体的用于含钌膜沉积的前体无效
申请号: | 200710139827.0 | 申请日: | 2007-08-02 |
公开(公告)号: | CN101122010A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | J·伽蒂诺;C·迪萨拉 | 申请(专利权)人: | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
主分类号: | C23C16/06 | 分类号: | C23C16/06;C23C16/44 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 林柏楠;刘金辉 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 用于含钌膜沉积的含钌前体,包含选自基本由下列物质组成的组的钌前体:Ru(XOp)(XCp)、Ru(XOp)2、Ru(烯丙基)3、RuX(烯丙基)2、RuX2(烯丙基)2、Ru(CO)x(脒根)Y、Ru(二酮根)2X2、Ru(二酮根)2(脒根)2、它们的衍生物及其任何混合物。 | ||
搜索关键词: | 具有 开放 用于 含钌膜 沉积 | ||
【主权项】:
1.用于含钌膜沉积的含钌前体,包含选自基本由下列物质组成的组的钌前体:Ru(XOp)(XCp)、Ru(XOp)2、Ru(烯丙基)3、RuX(烯丙基)2、RuX2(烯丙基)2、Ru(CO)x(脒根)Y、Ru(二酮根)2X2、Ru(二酮根)2(脒根)2、它们的衍生物及其任何混合物。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的