[发明专利]掩模和采用该掩模的沉积装置有效
| 申请号： | 200710126812.0 | 申请日： | 2007-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN101168834A | 公开（公告）日： | 2008-04-30 |
| 发明（设计）人： | 金兑承 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 韩明星;李云霞 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模和采用该掩模的沉积装置。掩模的一个实施例用于在具有多个子像素区的基底上沉积薄膜。该掩模包括具有多个第一开口的第一区域，每个第一开口与多个子像素区中的一个对应。该掩模还包括具有多个第二开口的第二区域，每个第二开口与多个子像素区中的至少两个对应。第二区域位于第一区域的两侧。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 沉积 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于在半成品显示装置上沉积薄膜的掩模，所述掩模包括：第一区域，包括第一开口的阵列，每个所述第一开口具有沿着第一轴测量的第一长度，第一区域具有沿着与所述第一轴基本垂直的第二轴延伸的边缘；第二区域，与所述第一区域的边缘相邻，所述第二区域包括第二开口的阵列，每个所述第二开口具有沿着所述第一轴测量的第二长度，所述第二长度是所述第一长度的长度的至少两倍，其中，所述第二开口沿着所述第一轴与所述第一开口基本对齐。
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