[发明专利]一种基于化学气相沉积制备碳纳米管阵列的方法无效
申请号: | 200710118930.7 | 申请日: | 2007-06-15 |
公开(公告)号: | CN101077773A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | 魏飞;张强;黄佳琦;骞伟中;王垚;罗国华 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C01B31/02 | 分类号: | C01B31/02;B82B3/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084北京市100*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种基于化学气相沉积制备碳纳米管阵列的方法,该方法采用现有成品混和碳源,如采用合成气、液化气、催化裂化干气、焦炉煤气、天然气、汽油、柴油或煤气作为制备碳纳米管阵列的碳源,并使用常规的化学气相沉积方法,制备碳纳米管阵列。本发明打破了现有技术中采用纯碳源作为其原料的技术局限,解决了制备碳纳米管阵列成本高,不易实现大规模制备的缺陷,从而既可有效降低成本,又容易实现碳纳米管阵列的批量生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 化学 沉积 制备 纳米 阵列 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于化学气相沉积法制备碳纳米管阵列的方法,其特征在于:采用合成气、液化气、催化裂化干气、焦炉煤气、天然气、汽油、柴油或煤气作为制备碳纳米管阵列的碳源,在保护气体气氛下使用催化剂裂解碳源实现化学气相沉积过程,从而在基板上生长出碳纳米管阵列。
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