[发明专利]碱性高锰酸盐蚀刻液的再生方法及其所用单元无效
申请号: | 200710107923.7 | 申请日: | 2007-05-15 |
公开(公告)号: | CN101186826A | 公开(公告)日: | 2008-05-28 |
发明(设计)人: | 中村纪和;中泽昌夫;宫本秀一;宫泽贤二;齐藤学 | 申请(专利权)人: | 新光电气工业株式会社 |
主分类号: | C09K13/04 | 分类号: | C09K13/04;H05K3/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁业平;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 将用过的碱性高锰酸盐蚀刻液(12)供入反应室(20)内,并将诸如氢氧化钙之类的碱土氢氧化物(14)加入到反应室中,搅动反应室内部的液体,从反应室的侧部或顶部通过过滤器(28)排放液体,刮掉附着在所述过滤器上的沉淀(26),并从反应室排出沉淀,该沉淀含有不能通过过滤器的并积聚在反应室底部的难溶性或不溶性物质。 | ||
搜索关键词: | 碱性 高锰酸盐 蚀刻 再生 方法 及其 所用 单元 | ||
【主权项】:
1.一种碱性高锰酸盐蚀刻液的再生方法,该方法包括以下步骤:将用过的碱性高锰酸盐蚀刻液供入反应室内,并将碱土氢氧化物加入到该反应室内;搅动所述反应室内的液体;从所述反应室的侧部或顶部通过过滤器排放所述液体;以及从所述反应室排出沉淀,该沉淀包括存积在所述反应室底部的不能通过所述过滤器的难溶性或不溶性物质。
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