[发明专利]具有双温度区的静电吸盘的衬底支架

摘要

本发明公开了一种在衬底处理腔室中用于容纳衬底的静电吸盘，包括具有衬底容纳表面和具有多个隔开的台面的相对的背面的陶瓷圆盘。电极嵌入在陶瓷圆盘中以产生静电力以保持衬底。位于陶瓷圆盘的外围和中心部分的加热线圈允许对陶瓷圆盘的中心和外围部分进行温度独立控制。通过具有容纳空气的凹槽的底座支撑吸盘。吸盘和底座协作以允许在腔室中调整衬底的温度分布。

主权项

1、一种用于处理腔室的锁紧环，所述处理腔室包括具有顶表面的底座和边缘环，所述顶表面具有用于支撑静电吸盘的吸盘容纳部分和外围部分，所述静电吸盘包括陶瓷圆盘，所述陶瓷圆盘具有包括第一和第二台阶的外围壁架，所述边缘环设置在陶瓷圆盘的第二台阶上，所述锁紧环包括：a)环形主体，具有用于支撑所述边缘环的顶表面以及具有多个孔的底表面，所述底表面的多个孔使得适于固定到所述底座的顶表面的外围部分；b)上唇缘，向内径向延伸以放置在所述陶瓷圆盘的外围壁架的第一台阶上；c)径向外部侧表面；以及d)基脚，从所述径向外部侧表面向下延伸以设置在所述底座顶表面的外围部分。