[发明专利]基底夹持装置、抛光装置及抛光方法有效
| 申请号： | 200710089026.8 | 申请日： | 2007-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN101045286A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | 安田穗积;户川哲二;锅谷治;斋藤贤一郎;福岛诚;井上智视 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 刘兴鹏;邵伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种基底夹持装置防止基底滑出并使得基底被稳定地抛光。该基底夹持装置具有：顶圈体，其用于夹持基底并将基底压在抛光表面上；以及挡圈，其用于压住所述抛光表面，所述挡圈布置在所述顶圈体的外圆周部分上；所述挡圈包括：由磁性材料制成的第一构件；以及在表面上布置有磁铁的第二构件，其与所述第一构件保持抵接。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 夹持 装置 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1、一种基底夹持装置，其包括顶圈体，其用于夹持基底并将基底压在抛光表面上；以及挡圈，其用于压住所述抛光表面，所述挡圈布置在所述顶圈体的外圆周部分上；所述挡圈包括：-由磁性材料制成的第一构件；以及-在表面上布置有磁铁的第二构件，其与所述第一构件保持抵接。
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