[发明专利]溅射靶及其制造方法、和追记型光记录介质有效
| 申请号： | 200710085608.9 | 申请日： | 2007-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN101037766A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | 林嘉隆;笹登;藤井俊茂;藤原将行;三浦裕司;加藤将纪;木边刚;鸣海慎也 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;B22F3/10;G11B7/243;G11B7/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种以含有Bi和B为特征的用于制作追记型光记录介质的溅射靶及其制造方法、使用该溅射靶的追记型高密度光记录介质，以及可以提高制膜速度来提高生产性、制膜时的强度高、并且提高了填充密度的用于制作追记型光记录介质的溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 追记 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种用于制作追记型光记录介质的溅射靶，其中，含有Bi和B。
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