[发明专利]多域垂直配向型像素结构及其制造方法有效
| 申请号： | 200710085489.7 | 申请日： | 2007-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN101261409A | 公开（公告）日： | 2008-09-10 |
| 发明（设计）人： | 陈建宏;朱正仁;许哲铭;杨长浩 | 申请（专利权）人： | 奇美电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/133 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多域垂直配向型像素结构，其包括有源元件、图案化像素电极与存储电容器。其中，有源元件配置于基板上，而图案化像素电极会与有源元件电性连接。此外，图案化像素电极具有主狭缝。上述的存储电容器配置于基板上且位于主狭缝内，且存储电容器电性连接至有源元件。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 像素 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种多域垂直配向型像素结构，适于配置于基板上，该多域垂直配向型像素结构包括：有源元件，配置于该基板上；图案化像素电极，与该有源元件电性连接，其中该图案化像素电极具有主狭缝；以及存储电容器，配置于该基板上且位于该主狭缝内，且该存储电容器电性连接至该有源元件。
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