[发明专利]一种电容器铝箔及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200710052335.8 申请日: 2007-05-31
公开(公告)号: CN101071684A 公开(公告)日: 2007-11-14
发明(设计)人: 潘应君;周青春;陈大凯;吴新杰 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: H01G9/04 分类号: H01G9/04
代理公司: 武汉开元专利代理有限责任公司 代理人: 樊戎
地址: 430081*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明具体涉及一种电容器铝箔及其制备方法。其方案是:先将铝箔清洗后装入传送系统,再在沉积室1、冷却室6的底真空为6~8×10-3Pa的条件下,按体积比为1∶0.5~1∶2通入氮气和乙炔至沉积室1,沉积室1的气压为0.5~5pa,然后在沉积负偏压为50~300V的条件下开启钛靶电弧蒸发源3、11,靶电流为60~100A,同时启动传送系统,铝箔以5~20m/s的速度进入冷却室6,最后以10~60℃/min的冷却速度通入液氮,冷却至20~80℃。因此,本发明所制备的电容器铝箔的比容高、稳定性好、电容衰减小、无环境污染、使用寿命长。
搜索关键词: 一种 电容器 铝箔 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种电容器铝箔的制备方法,制备电容器铝箔的设备是,在沉积室1的上、下部分别装有多个钛靶电弧蒸发源3、11,沉积室1的中部设置有阴极导辊13,沉积室1的侧面设有进气口2,脉冲偏压电源4的一端与阴极导辊13相连、另一端与沉积室1的炉体阳极相连,沉积室1设置有传送系统的给料装置12,沉积室1通过一绝缘绝热通道与冷却室6相通,沉积室1、冷却室6分别与各自独立的真空控制系统8、10相通,冷却室6的上、下部分别设置有液氮喷嘴5、9,冷却室6的中部设置有传送系统的卷取装置7,其特征在于先将铝箔清洗后装入传送系统,再在沉积室1、冷却室6的底真空为6~8×10-3Pa的条件下,按体积比为1∶0.5~1∶2通入氮气和乙炔至沉积室1,沉积室1的气压为0.5~5.0pa,然后在沉积负偏压为50~300V的条件下开启钛靶电弧蒸发源3、11,靶电流为60~100A,同时启动传送系统,铝箔以5~20m/s的速度进入冷却室6,最后以10~60℃/min的冷却速度通入液氮,冷却至20~80℃。
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