[发明专利]一种用于光刻设备的对准系统有效
| 申请号： | 200710044152.1 | 申请日： | 2007-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN101114135A | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | 韦学志;李运锋;徐荣伟;周畅;陈勇辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于光刻设备的对准系统，其在基底标记或基底台基准标记使用具有粗精配合的三周期相位光栅，只利用这三个周期的一级衍射光作为对准信号，可以实现大的捕获范围的同时获得高的对准精度，还可以获得标记变形的信息和其它有用信息，通过对三个周期大小配合和/或布局进行优化设计，可以使得标记非对称变形对对准位置的影响有效减小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 设备 对准 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻设备的对准系统，其特征在于，所述对准系统包括：对准辐射源；对准标记；对准标记信号检测器；和信号处理器；其中，所述对准辐射源发出校准光束；所述校准光束照射所述对准标记得到对准标记信号；所述对准标记信号射入所述对准标记信号检测器；所述对准标记信号检测器与信号处理器相连接。
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