[发明专利]一种用于光刻设备的对准系统

权利要求书

1.一种用于光刻设备的对准系统，其特征在于，所述对准系统包括：

对准辐射源；

对准标记；

对准标记信号检测器；和

信号处理器；

其中，所述对准辐射源发出校准光束；所述校准光束照射所述对准标记得到对准标记信号；所述对准标记信号射入所述对准标记信号检测器；所述对准标记信号检测器与信号处理器相连接。

2.根据权利要求1所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述对准标记包含有至少三段光栅结构。

3.根据权利要求2所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述对准标记包含的相位光栅有三个不同周期。

4.根据权利要求3所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述对准标记信号为所述校准光束照射所述对准标记后发出的一级衍射信号。

5.根据权利要求4所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述的光刻设备包括基底和基底台，所述对准标记可以位于基底上，也可以位于基底台上。

6.根据权利要求4所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述透镜组可以是单独设计的采用双远心结构的4f透镜组，也可以是光刻机的投影物镜。

7.根据权利要求4所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述透镜组包括前组透镜，所述对准标记位于所述透镜组的前组透镜焦平面上。

8.根据权利要求4所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述对准系统采用统一的工作时序控制机制。

9.根据权利要求4所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述对准标记可以是成直线排列的三个不同周期的相位光栅。

10.根据权利要求9所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述成直线排列的三个不同周期的相位光栅的条纹垂直于所述三个光栅所成直线，位于中部的光栅的周期可以小于位于两边的光栅的周期。

11.根据权利要求10所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述位于中部的光栅的周期可以大于所述位于两边的光栅的周期之差。

12.根据权利要求4所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述对准标记可以是位于同一平面内成正交布置的两组成直线排列的三个不同周期的相位光栅。

13.根据权利要求12所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述成直线排列的三个不同周期的相位光栅的条纹垂直于所述三个光栅所成直线，位于中部的光栅的周期小于位于两边的光栅的周期。

14.根据权利要求13所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述位于中部的光栅的周期大于所述位于两边的光栅的周期之差。

15.根据权利要求4所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述对准标记可以是位于同一平面内的其他方式排列的包含三个不同周期的相位光栅。

16.根据权利要求4所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述透镜组中可以加入空间滤波器。

17.根据权利要求16所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述空间滤波器仅允许三个周期的相位光栅的一级衍射信号通过。

18.根据权利要求17所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述空间滤波器可以是仅允许所述对准标记的光栅的一级衍射信号通过的孔径光阑。

19.根据权利要求4所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述对准辐射源可以是只能发出一个波长的校准光束的辐射源。

20.根据权利要求4所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述对准辐射源可以是能发出两个或两个以上波长的校准光束的辐射源。

21.根据权利要求20所述的用于光刻设备的对准系统，其特征在于：所述能发出两个或两个以上波长的校准光束的辐射源可以是同一时刻只发出一个波长的校准光束的辐射源。