[发明专利]采用气体分离型喷头的原子层沉积装置

摘要

本发明提供一种采用气体分离型喷头的原子层沉积(ALD)装置。因此，原子层沉积装置采用气体分离型喷头，所述气体分离型喷头包括气体供应模块、气体分离模块和气体注入模块。所述ALD装置包括：第一前体源，储存第一前体并连接到外供应管；第二前体源，储存第二前体并连接到内供应管；吹扫气体源，储存吹扫气体并连接到外供应管和内供应管；电源，将电离用的能量应用于气体分离模块；以及排气装置，排出反应室中的剩余材料。

主权项

1.一种采用气体分离型喷头的原子层沉积装置，所述气体分离型喷头包括：具有外供应管和内供应管的气体供应模块，通过所述外供应管提供第一前体，通过所述内供应管提供第二前体；具有第一分散区域和第二分散区域的气体分离模块，所述第一分散区域连接到所述外供应管，所述第二分散区域连接到所述内供应管；以及具有多个公共孔的气体注入模块，所述第一前体和所述第二前体通过所述多个公共孔交替地注入到反应室中，所述原子层沉积装置包括：第一前体源，其储存所述第一前体并连接到所述外供应管；第二前体源，其储存所述第二前体并连接到所述内供应管；吹扫气体源，其储存吹扫气体并连接到所述外供应管和所述内供应管；以及排气装置，其排出所述反应室中的剩余材料。