[发明专利]半导体制造工艺尾气处理设备的废水回收系统和方法无效
| 申请号： | 200710005518.4 | 申请日： | 2007-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN101239759A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 卢宗隆;商能洲;张朝谦 | 申请（专利权）人： | 锋霈企业股份有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04;C02F1/72;C02F1/42;C02F1/78 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄健 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种半导体制造工艺尾气处理设备的废水回收系统和方法，包括将经过该半导体制造工艺尾气处理设备的废水通过过滤装置以去除该废水中的微粒，还包括氧化装置以氧化该废水中的有机污染物，以及离子交换装置以去除该废水中的离子，以产生回收水供该半导体制造工艺尾气处理设备再使用，达到废水回收再利用的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 制造 工艺 尾气 处理 设备 废水 回收 系统 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种半导体制造工艺尾气处理设备的废水回收系统，其特征在于包括：第一储桶，连接所述半导体制造工艺尾气处理设备，用以收集经过该半导体制造工艺尾气处理设备的废水；过滤装置，连接所述第一储桶，用以去除所述废水中的微粒；氧化装置，连接所述过滤装置，用以氧化所述废水中的有机污染物；离子交换装置，连接所述氧化装置，用以去除所述废水中的离子；以及第二储桶，连接所述离子交换装置，用以收集所述废水经上述过滤装置、氧化装置及离子交换装置后产生的回收水，以供所述半导体制造工艺尾气处理设备再利用。
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