[发明专利]成像设备、放射线成像设备及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200710004773.7 申请日: 2007-01-30
公开(公告)号: CN101013711A 公开(公告)日: 2007-08-08
发明(设计)人: 渡边实;望月千织;石井孝昌 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L27/12;H01L21/84;G03B42/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李德山
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了一种成像设备,包括以二维方式设置在绝缘基板上的多个像素,每个像素包括转换元件和薄膜晶体管;该光电转换元件设置在薄膜晶体管之上,其中用作层间绝缘膜的绝缘膜插入转换元件与薄膜晶体管之间;通过设置在绝缘膜中的接触孔使薄膜晶体管的源电极或漏电极与光电转换元件彼此连接。该成像设备具有其中通过激光束照射移除接触孔部分从而断开了转换元件与用作薄膜晶体管的源电极或漏电极的导电层之间的电连接的像素。
搜索关键词: 成像 设备 放射线 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种成像设备,包括:设置在绝缘基板上的多个像素,所述多个像素中的每一个都包括:具有源电极和漏电极的薄膜晶体管;设置在薄膜晶体管之上的转换元件;以及设置在薄膜晶体管与转换元件之间的绝缘膜,其中所述多个像素包括:其中通过设置在绝缘膜中的接触孔使薄膜晶体管的源电极或漏电极与转换元件彼此连接的像素;以及其中与薄膜晶体管的源电极或漏电极电连接的转换元件、绝缘膜和导电层被一同移除从而断开了薄膜晶体管与转换元件之间的电连接的像素。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710004773.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top