[发明专利]中空二氧化硅粒子及其制备方法无效
申请号: | 200680037266.7 | 申请日: | 2006-07-28 |
公开(公告)号: | CN101282907A | 公开(公告)日: | 2008-10-08 |
发明(设计)人: | 马修·大卫·巴茨;萨拉·伊丽莎白·吉诺维斯;保罗·伯切尔·格拉泽;达里尔·斯蒂芬·威廉姆斯 | 申请(专利权)人: | 莫门蒂夫功能性材料公司 |
主分类号: | C01B33/18 | 分类号: | C01B33/18 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王海川;樊卫民 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了用于制备二氧化硅中空粒子的方法,所述粒子由包括含硅化合物的组合物制备,所述含硅化合物选自四烷氧基硅烷、三烷氧基硅烷及其衍生物、二烷氧基硅烷及其衍生物、烷氧基硅烷及其衍生物、有机硅低聚物、低聚倍半硅氧烷以及有机硅聚合物,其分布在从所述粒子中去除的整个聚合物模板芯上。本发明的粒子具有基本上均匀的粒度,并表现出低的液体渗透性。 | ||
搜索关键词: | 中空 二氧化硅 粒子 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.用于制备含二氧化硅的中空粒子的方法,包括步骤:制造模板粒子;向所述模板粒子的表面提供偶联剂;在所述模板粒子上提供含硅的化合物以沉积含二氧化硅的壳,从而在所述模板粒子上产生基本均匀的涂层;以及通过如下方式消除所述模板粒子,首先将所述模板粒子加热至约325℃~约525℃的第一温度持续第一段时间,然后将所述粒子加热至约525℃~约900℃的第二温度持续第二段时间,由此制备二氧化硅中空粒子。
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