[发明专利]使用超临界溶剂的结晶制造方法、结晶生长装置、结晶及器件有效

专利信息
申请号: 200680023605.6 申请日: 2006-06-29
公开(公告)号: CN101213327A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 川端绅一郎;吉川彰;镜谷勇二;福田承生 申请(专利权)人: 三菱化学株式会社;国立大学法人东北大学
主分类号: C30B7/10 分类号: C30B7/10;C30B29/16;C30B29/18;C30B29/38
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张平元
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于,在反应容器内存在规定量的与溶剂临界密度不同的物质,通过溶剂热法进行结晶生长,从而控制结晶的析出位置,提高结晶的收率,此外,防止在结晶中混入杂质,从而使结晶高纯度化。本发明的结晶制造方法是在反应容器中使用超临界状态和/或亚临界状态的溶剂以及原料而使结晶生长,其特征在于,在该反应容器中存在满足式(1)且与该溶剂的临界密度差为25%以上的物质(X),通过调整该物质(X)的量,控制结晶的析出位置。
搜索关键词: 使用 临界 溶剂 结晶 制造 方法 生长 装置 器件
【主权项】:
1.一种结晶制造方法,其是在反应容器中使用超临界状态和/或亚临界状态的溶剂以及原料而使结晶生长的结晶制造方法,其中,在该反应容器中存在满足下述式(1)且与上述溶剂的临界密度差为25%以上的物质(X),并且,通过调整该物质(X)的量,控制结晶的析出位置,[数学式1]
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