[发明专利]用于单道次涂覆基体两面的组件

摘要

公开了一种在用于涂覆双面基体的溅射沉积装置中承载靶的组件。该组件可通过连接法兰安装在该溅射沉积装置上，该连接法兰承载至少两个具有相应磁体系统的靶。在组件安装好时，靶位于双面基体的相对侧，同时磁体系统把溅射沉积导向基体。该组件可单道次涂覆基体的两面。说明了带有气体分配系统和基体额外支撑件的各种构造。还包括具有用来减小气体扩散的可调挡板的外壳。

主权项

1.一种用于承载溅射靶的组件(222)，所述组件包括可真空密封地安装在溅射沉积装置(202)上的连接法兰(220)，所述溅射沉积装置用于涂覆具有两面的基体(208)，所述连接法兰承载可安装在所述连接法兰上的至少两个细长靶(212、212’)，每一所述靶包括一用于引导溅射沉积的磁体系统(224、224’)，其特征在于，当利用所述连接法兰将所述组件安装到所述溅射沉积装置上时，所述靶位于所述两面基体的两相对侧的位置，每一所述磁体系统朝向所述基体，从而一次操作就可涂覆所述基体的两面。