[发明专利]用于单道次涂覆基体两面的组件

权利要求书

1.一种用于承载溅射靶的组件(222)，所述组件包括可真空密封地安装在溅射沉积装置(202)上的连接法兰(220)，所述溅射沉积装置用于涂覆具有两面的基体(208)，所述连接法兰承载可安装在所述连接法兰上的至少两个细长靶(212、212’)，每一所述靶包括一用于引导溅射沉积的磁体系统(224、224’)，其特征在于，当利用所述连接法兰将所述组件安装到所述溅射沉积装置上时，所述靶位于所述两面基体的两相对侧的位置，每一所述磁体系统朝向所述基体，从而一次操作就可涂覆所述基体的两面。

2.按权利要求1所述的组件，其特征在于，靶(612、612’)为平面靶。

3.按权利要求1所述的组件，其特征在于，靶(212、212’)为可旋转靶。

4.按权利要求1所述的组件，其特征在于，至少一个靶为平面靶，并且至少一个靶为可旋转靶。

5.按权利要求1-4中任一权利要求所述的组件，其特征在于，所述靶(512、512’)的轴线与所述安装法兰(520)基本垂直。

6.按权利要求5所述的组件，其特征在于，所述组件还包括安装在所述法兰上的至少一个连接块，用于在一端承载所述靶。

7.按权利要求1-4中任一权利要求所述的组件，其特征在于，所述靶(412、412’、412”、412)的轴线与所述安装法兰(420)基本平行。

8.按权利要求7所述的组件，其特征在于，所述组件还包括安装在所述法兰上的至少两个连接块(414)，用于在两端承载所述靶。

9.按权利要求8所述的组件，其特征在于，所述组件还包括安装在所述法兰上的至少四个连接块(214、214’)，用于在两端承载所述靶(212、212’)。

10.按权利要求1-9中任一权利要求所述的组件，其特征在于，该组件还包括至少一个安装在所述连接法兰上的气体分配系统(216、216’)。

11.按权利要求1-10中任一权利要求所述的组件，其特征在于，该组件还带有至少一个用于在涂覆时支撑所述基体的基体支撑件(211)。

12.按权利要求1-11中任一权利要求所述的组件，其特征在于，所述组件还带有外壳(424、426)，外壳有供基体穿过的进口狭缝(434)和出口狭缝(436)，所述进出口狭缝具有使所述靶彼此隔离的可调节侧面挡板(432、432’)。

13.按权利要求12所述的组件，其特征在于，所述侧面挡板通过基体宽度检测器(430、430’)来调节。