[发明专利]可控的电化学抛光方法无效
| 申请号： | 200680021023.4 | 申请日： | 2006-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN101218378A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 保罗·菲尼;弗拉斯塔·布鲁西克 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C25F3/02 | 分类号： | C25F3/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过在与包含还原剂或氧化剂的抛光组合物接触的基底和至少一个电极之间施加电化学电势来抛光含有至少一层金属层的基底的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 可控 电化学 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光基底的方法，包括：(i)提供包含至少一层金属层的基底，(ii)使基底与含有液体载体和电解质的抛光组合物接触，(iii)在接触抛光组合物的基底和电极之间施加电化学电势，其中或者(a)所施加的电势为正电势并且抛光组合物进一步包含该金属的还原剂，或者(b)所施加的电势为负电势并且抛光组合物进一步包含该金属的氧化剂，及(iv)从基底表面除去至少一部分金属层。
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