[发明专利]利用改进的NPN双极晶体管基极接入电阻的方法和器件无效

专利信息
申请号: 200680019342.1 申请日: 2006-06-01
公开(公告)号: CN101189728A 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 谭博成;彼得·戴克勒;西塞罗·西尔韦拉·沃谢 申请(专利权)人: NXP股份有限公司
主分类号: H01L29/737 分类号: H01L29/737;H01L29/08
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 陈源;张天舒
地址: 荷兰爱*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种结构,此结构包括依然共用共同的DTI区和单个大片基极多晶硅的多个短发射极。这种结构允许基极电流向4个方向(即2维)而不是仅2个方向上流动。因而大大减小了晶体管基极电阻,这对于使NPN晶体管获得更好的RF特性和高频噪声特性是至关重要的。
搜索关键词: 利用 改进 npn 双极晶体管 基极 接入 电阻 方法 器件
【主权项】:
1.一种垂直晶体管,包括:至少2个发射极条(301),每个包括:一个基极区,一个发射极区,和一个集电极区,其中所述的至少2个发射极条(301)共用一个共同DTI区(311)和一个单基极多晶硅(304)。
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