[发明专利]处理室的高效UV清洁无效

专利信息
申请号: 200680014799.3 申请日: 2006-04-18
公开(公告)号: CN101171367A 公开(公告)日: 2008-04-30
发明(设计)人: 托马斯·诺瓦克;均·卡洛斯·若彻-阿勒圭瑞;安德则耶·卡祖巴;斯科特·A·亨德里克森;达斯廷·W·霍;萨恩吉夫·巴卢哈;汤姆·周;约瑟芬尼·常;海澈姆·穆萨德 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;B08B7/00
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人: 赵飞
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种紫外(UV)固化室,能够对布置在衬底上的介质材料进行固化并对其进行原位清洁。串列处理室设有两个单独并相邻的处理区域,这些处理区域由盖子所覆盖的主体限定,盖子分别位于各个处理区域上方并具有对准的窗口。每个由耦合到盖子的壳体所覆盖的处理区域有一个或多个UV灯泡发射UV光,UV光被经过窗口导向位于处理区域内的衬底上。UV灯泡可以是发光二极管阵列或采用例如微波或射频源的灯泡。可以在固化处理期间以脉冲方式产生UV光。使用远程产生的氧基/臭氧和/或原位实现了室的清洁。使用灯阵列、衬底与灯头的相对运动以及灯反射器形状和/或位置的实时改变可以增强衬底照明的均匀性。
搜索关键词: 处理 高效 uv 清洁
【主权项】:
1.一种对半导体处理室进行清洁的方法,包括:提供限定了处理区域的紫外室;从所述处理区域的远程产生臭氧;将所述臭氧引入所述处理区域;和对所述处理区域内的表面进行加热,以使所述臭氧中至少一些分解为氧基和原子氧。
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