[发明专利]处理室的高效UV清洁无效
申请号: | 200680014799.3 | 申请日: | 2006-04-18 |
公开(公告)号: | CN101171367A | 公开(公告)日: | 2008-04-30 |
发明(设计)人: | 托马斯·诺瓦克;均·卡洛斯·若彻-阿勒圭瑞;安德则耶·卡祖巴;斯科特·A·亨德里克森;达斯廷·W·霍;萨恩吉夫·巴卢哈;汤姆·周;约瑟芬尼·常;海澈姆·穆萨德 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B08B7/00 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 赵飞 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种紫外(UV)固化室,能够对布置在衬底上的介质材料进行固化并对其进行原位清洁。串列处理室设有两个单独并相邻的处理区域,这些处理区域由盖子所覆盖的主体限定,盖子分别位于各个处理区域上方并具有对准的窗口。每个由耦合到盖子的壳体所覆盖的处理区域有一个或多个UV灯泡发射UV光,UV光被经过窗口导向位于处理区域内的衬底上。UV灯泡可以是发光二极管阵列或采用例如微波或射频源的灯泡。可以在固化处理期间以脉冲方式产生UV光。使用远程产生的氧基/臭氧和/或原位实现了室的清洁。使用灯阵列、衬底与灯头的相对运动以及灯反射器形状和/或位置的实时改变可以增强衬底照明的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 处理 高效 uv 清洁 | ||
【主权项】:
1.一种对半导体处理室进行清洁的方法,包括:提供限定了处理区域的紫外室;从所述处理区域的远程产生臭氧;将所述臭氧引入所述处理区域;和对所述处理区域内的表面进行加热,以使所述臭氧中至少一些分解为氧基和原子氧。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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