[发明专利]半导体的清洁无效
| 申请号： | 200680011004.3 | 申请日： | 2006-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN101155906A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特·J·斯莫尔 | 申请（专利权）人： | 罗伯特·J·斯莫尔 |
| 主分类号： | C11D11/00 | 分类号： | C11D11/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘冬;韦欣华 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种清洁基体的方法，包括使半导体基体的表面与包含离子液体的组合物接触。清洁基体的另一种方法包括使半导体基体的表面与包含超强酸的组合物接触。半导体基体可以是晶片。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 清洁 | ||
【主权项】：
1.一种清洁基体的方法，该方法包括使半导体基体的表面与包含离子液体的组合物接触。
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