[发明专利]灰化设备、灰化方法及杂质掺入设备

摘要

一种实现高产量的灰化设备和方法，其中抗蚀剂的表面硬化层和内部非硬化层之间的界面以及非硬化层和半导体基板之间的界面可以被探测，以及一种杂质掺入设备组。等离子体灰化形成在抗蚀剂上的表面硬化层和内部非硬化层的该灰化设备，该抗蚀剂作为掩模涂覆在半导体基板上并且掺有杂质，其特征在于包括偏振光椭圆计，用于在等离子体灰化时使线偏振光入射到半导体基板来探测该半导体基板反射的椭圆偏振光，来探测该硬化层和该非硬化层之间的界面以及该非硬化层和该半导体基板之间的界面。

主权项

1.一种灰化设备，包括：用于去除通过将不同于在固体样品表面形成的抗蚀剂材料的材料引入该抗蚀剂材料中而形成的硬化层，以及该抗蚀剂材料内部的非硬化层的装置，通过使线偏振光入射到所述固体样品上来探测从所述固体样品反射的椭圆偏振光，并且探测所述硬化层和所述非硬化层之间的界面以及所述非硬化层和所述固体样品之间的界面。