[发明专利]聚乙烯基铵化合物、及其制法、包含该化合物的酸性溶液和电解沉积铜沉积物的方法有效

专利信息
申请号: 200680007874.3 申请日: 2006-03-01
公开(公告)号: CN101137680A 公开(公告)日: 2008-03-05
发明(设计)人: U·格里泽(已故);W·达姆斯;P·哈特曼 申请(专利权)人: 埃托特克德国有限公司
主分类号: C08F26/02 分类号: C08F26/02;C08F8/02;C08F8/44;C08F8/12;C25D3/38;B44C1/00;H05K3/42;C25D7/12
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 程大军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种聚乙烯基铵化合物、一种制造所述化合物的方法、一种用于电解沉积铜沉积物的至少含有该聚乙烯基铵化合物的酸性水溶液以及一种使用所述酸性水溶液电解沉积铜沉积物的方法,该聚乙烯基铵化合物对应于化学通式(I),以及化学通式(I)的其中具有下标l及m的单体单元之一或两者以中性形式存在的聚乙烯基铵化合物。
搜索关键词: 聚乙烯 化合物 及其 制法 包含 酸性 溶液 电解 沉积 沉积物 方法
【主权项】:
1.一种具有化学通式(I)的聚乙烯基铵化合物:其中:1、m及n为指示聚乙烯基铵化合物中各单体单元的分率的单体单元的下标,其以[摩尔%]表示,其中化合物中的1+m+n为100摩尔%,附加条件为:1)1+m相对于1+m+n为1-100摩尔%,且n相对于1+m+n为99-0摩尔%,且2)m相对于1+m为1-100摩尔%,且1相对于1+m为99-0摩尔%,R1为选自取代和未被取代的芳烷基和烯基的基,R2为CHO或H,R2在聚乙烯基铵化合物中具有下标1的所有单体单元中相同或不同,其附加条件为具有下标1的含H单体单元相对于具有下标1的所有单体单元的分率为1-100摩尔%,且具有下标1的含CHO单体单元相对于具有下标1的所有单体单元的分率为99-0摩尔%,R3为选自以下组的基:具有1-6个碳原子的饱和羧酸基、具有3-8个碳原子的不饱和羧酸以及所述羧酸的酯、酐、酰胺和腈,R3在聚乙烯基铵化合物中具有下标n的所有单体单元中相同或不同,且A-为酸阴离子,以及具有化学通式(I)的聚乙烯基铵化合物,其中具有下标1或m的单体单元之一或两者以中性形式存在。
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