[实用新型]改进的等离子真空镀膜装置

摘要

本实用新型是一种改进的等离子真空镀膜装置，涉及等离子真空镀膜设备。其特征是镀膜罐设为水平卧置，沿镀膜罐体外表面纵向两侧对称的各设有一组外凸源座和离子发射源，两侧外凸源座均设于镀膜罐体轴心水平面之上；离子发射源固置于外凸源座，每组离子发射源的个数不少于6个；镀膜罐体分别设有进气口和排气口，进气口设于镀膜罐体密封底板的顶部，出气口设于镀膜罐体底部的纵向一侧。按本方案实施的镀膜装置，因将原有的立式镀膜装置改进为水平卧置式，不仅可以对大型工件施镀，而且也因在装置上改进了反应气路结构而获得深色的镀膜效果，其施镀的色彩艳丽均匀、膜层附着牢固。本实用新型具有效率高、成本低和节能的特点，是一种有益的改进。

主权项

1、一种改进的等离子真空镀膜装置，包括镀膜罐、传动机构、转架、行走架车、源座和离子发射源、加热器、偏压器件，其特征是镀膜罐设为水平卧置，沿镀膜罐体外表面纵向两侧对称的各设有一组外凸源座和离子发射源，两侧外凸源座均设于镀膜罐体轴心水平面之上。