[实用新型]用于处理平板显示器衬底的化学气相沉积系统无效
| 申请号: | 200620117624.2 | 申请日: | 2006-05-26 |
| 公开(公告)号: | CN200996046Y | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
| 发明(设计)人: | 崔寿永 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
| 主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 赵飞 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 本实用新型提供一种用于清洗化学气相沉积室的装置。该化学气相沉积室包括将来自远程等离子体源的反应性物种绕过室的气体分配组件引入室中的入口和将来自远程等离子体源的反应性物种经由气体分配组件引入室中的入口。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 处理 平板 显示器 衬底 化学 沉积 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于处理平板显示器衬底的化学气相沉积系统,其特征在于包括:化学气相沉积室,包括:室体;衬底支撑;和气体分配组件;其中所述室体限定构造成将来自远程等离子体源的反应性物种经由所述气体分配组件提供至所述化学气相沉积室的处理区中的第一入口,并且所述室体限定构造成将来自相同或不同远程等离子体源的反应性物种绕过所述气体分配组件提供至所述化学气相沉积室的所述处理区中一个或多个第二入口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





